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專利申請(qǐng)權(quán)利要求書怎么寫?
專利申請(qǐng)權(quán)利要求書是什么?
《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn),說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。因此,權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護(hù)范圍的依據(jù),也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。
權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個(gè)不同的概念,不能混淆,更不能簡(jiǎn)單的劃等號(hào)。權(quán)利要求書是專利申請(qǐng)人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)@姓块T提交的一項(xiàng)重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征,一項(xiàng)權(quán)利要求書中可以包含多個(gè)權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。
專利申請(qǐng)獲得授權(quán)后,權(quán)利要求是作為限定專利保護(hù)范圍的依據(jù),其對(duì)專利的概括程度與專利保護(hù)范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護(hù)申請(qǐng)人的利益,權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護(hù)范圍。
一般來說,權(quán)利要求數(shù)量越多,專利的保護(hù)范圍越大,說明專利的原創(chuàng)性越高,專利質(zhì)量也越高,同時(shí)遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高。
專利申請(qǐng)權(quán)利要求書怎么寫?
權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式,應(yīng)當(dāng)要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)
1、撰寫前排除明顯不能獲得專利保護(hù)的主題
撰寫以前,首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實(shí)用新型的定義的主題,排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體,排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實(shí)用性規(guī)定的主題。
2、撰寫要求
(1)權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)包括獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求(《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第1款)。
(2)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求:①在合理的前提下具有較寬的保護(hù)范圍,能夠最大限度地體現(xiàn)申請(qǐng)人的而利益;②清楚簡(jiǎn)明地限定其保護(hù)范圍(《專利法》第26條第4款);③記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征(《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款);④對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性(《專利法》第22條第2款、第3款);⑤符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(3)從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求:①?gòu)膶贆?quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)、合理;②與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系(《專利法》第26條第4款、《專利法實(shí)施細(xì)則》第22條);③當(dāng)授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護(hù)范圍的情況時(shí),能提供充分的修改余地;④符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(4)撰寫多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求的,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間應(yīng)當(dāng)具有單一性。
3、權(quán)利要求撰寫的方式
不考慮概括的撰寫方式
撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征,并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書,將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點(diǎn)。技術(shù)交底材料如果針對(duì)發(fā)明點(diǎn)只有一個(gè)實(shí)施例,一般不需要考慮對(duì)實(shí)施例的概括。
1)不需要對(duì)多個(gè)實(shí)施例的概括情形
以下幾種情況,一般不需要對(duì)涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行概括:①如果技術(shù)交底材料只給出一個(gè)技術(shù)主題之下的一個(gè)實(shí)施例的情況,一般不進(jìn)行上位概括或者功能性概括;②如果技術(shù)交底材料給出了多個(gè)實(shí)施例,但是多個(gè)實(shí)施例的之間為主從關(guān)系,可針對(duì)基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求(不需要概括),而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫;③如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式,也不需要考慮多個(gè)實(shí)施例的概括問題。
2)權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟
針對(duì)不需要概括的權(quán)利要求,通過以下6個(gè)步驟撰寫:
第一步:技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個(gè)方面:列出全部技術(shù)特征;分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。
第二步:找發(fā)明點(diǎn)。找發(fā)明點(diǎn)的步驟中包括兩個(gè)方面:技術(shù)對(duì)比,找出區(qū)別技術(shù)特征;在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點(diǎn)。
第三步:確定所要解決的技術(shù)問題。在第三步中,應(yīng)當(dāng)根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點(diǎn)所產(chǎn)生的技術(shù)效果,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對(duì)比,確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。
第四步:確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問題必不可少的特征,實(shí)際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。
第五步:撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上,完成獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫。獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫分為兩個(gè)方面:①確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱,主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征;② 對(duì)必要技術(shù)特征在語言上進(jìn)行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進(jìn)行組合,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較,將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分,區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。
第六步:撰寫從屬權(quán)利要求。對(duì)其他附加技術(shù)特征進(jìn)行分析,將那些對(duì)申請(qǐng)創(chuàng)造性會(huì)起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多,現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。
多個(gè)實(shí)施例的概括撰寫方式
如果針對(duì)發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上的實(shí)施例,盡可能將其共性在一個(gè)權(quán)利要求中進(jìn)行概括。
1)多個(gè)實(shí)施例需要概括的判斷
對(duì)于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言,在撰寫權(quán)利要求時(shí),首先應(yīng)當(dāng)分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系:
①多個(gè)實(shí)施例的改進(jìn)之間為主從關(guān)系;
②多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn),各改進(jìn)方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個(gè)實(shí)施例可以進(jìn)行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案,則應(yīng)當(dāng)盡可能對(duì)這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式(上位概括或者功能性概括)的技術(shù)特征加以描述,從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨(dú)立權(quán)利要求中;在此基礎(chǔ)上再分別針對(duì)這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求;b.多個(gè)實(shí)施例無法進(jìn)行概括,可以分別針對(duì)這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求:
③多個(gè)實(shí)施例為并列改進(jìn),各改進(jìn)方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案,且彼此之間不屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思,則只能分別在兩件專利申請(qǐng)中以獨(dú)立權(quán)利要求方式撰寫。
2)需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟
針對(duì)需要概括的權(quán)利要求,仍然通過前面介紹的6步法進(jìn)行撰寫,在第4步確定必要技術(shù)特征時(shí),需要對(duì)多個(gè)實(shí)施例的共同點(diǎn)進(jìn)行概括。
對(duì)于針對(duì)發(fā)明點(diǎn)有兩個(gè)以上并列實(shí)施例的,可以通過以下方式概括:①功能性概括,采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式;②功能性概括,但是不出現(xiàn)部件名稱,而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu);③上位概括,采取部件的上位名稱代替具體部件;④上位概括,不出現(xiàn)上位名稱,而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。
并列發(fā)明點(diǎn)的寫法
如果最根本的區(qū)別特征有兩個(gè)或者兩個(gè)以上,則屬于并列發(fā)明點(diǎn)。
1)并列發(fā)明點(diǎn)的判斷。出現(xiàn)以下情形時(shí),需要考慮并列發(fā)明點(diǎn)獨(dú)立權(quán)利要求的布局問題:①技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個(gè)最根本的技術(shù)問題,多個(gè)根本的技術(shù)問題是并列的,無依存或者主從關(guān)系,實(shí)施方式之間也沒有相同構(gòu)思;②雖然技術(shù)交底材料中只有一個(gè)最根本所要解決的技術(shù)問題,但是有多個(gè)實(shí)施方式,多個(gè)實(shí)施方式之間不具有相同的構(gòu)思,無法進(jìn)行概括,撰寫為多個(gè)并列的獨(dú)立權(quán)利要求又不具有單一性。
2)并列發(fā)明點(diǎn)的布局方式。對(duì)于技術(shù)交底材料有多個(gè)發(fā)明點(diǎn)的撰寫,首先在第一件專利申請(qǐng)中,技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時(shí),第二個(gè)發(fā)明可能會(huì)寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護(hù)發(fā)明創(chuàng)造,還需要針對(duì)第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)撰寫成另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求,并建議委托人在同日另行提出一件專利申請(qǐng)。
3)撰寫步驟。并列發(fā)明點(diǎn)的撰寫與前面介紹的6步法基本相同,只是多了一個(gè)步驟7。在第二步確定發(fā)明點(diǎn)時(shí)發(fā)現(xiàn)有兩個(gè)或者兩個(gè)以上并列發(fā)明點(diǎn)時(shí),在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中,以第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)為核心再撰寫第一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。
并列主題
如果技術(shù)交底材料中出現(xiàn)了產(chǎn)品、制造方法、化學(xué)成分、配套的設(shè)備等內(nèi)容,則考慮為并列主題。對(duì)于每一個(gè)主題,都需要寫成并列獨(dú)立權(quán)利要求。如果技術(shù)交底書給出發(fā)明創(chuàng)造的若干技術(shù)主題,則首先要確定技術(shù)主題,在每個(gè)技術(shù)主題下,分別按照6步法進(jìn)行撰寫。
1)判斷技術(shù)主題的類型及數(shù)量
在閱讀技術(shù)交底書的過程中,首先應(yīng)當(dāng)判斷出技術(shù)交底書中描述的技術(shù)主題的類型,是產(chǎn)品還是方法?如果技術(shù)交底材料中涉及多個(gè)技術(shù)主題,在技術(shù)特征分析后,通過特定技術(shù)特征的比較確定多個(gè)主題之間是否具有單一性。對(duì)于不具有單一性的并列技術(shù)主題,需要撰寫另案申請(qǐng)的權(quán)利要求。
2)并列獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫方式。并列獨(dú)立權(quán)利要求有兩種撰寫方式:①引用式并列獨(dú)立權(quán)利要求,例如,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為:
“1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種使用如權(quán)利要求1所述XX設(shè)備的方法,其特征在于:A’B’C’D’”
3.一種YY設(shè)備,其特征在于:將權(quán)利要求1所述的XX設(shè)備與M設(shè)備連接起來?!?/p>
引用式撰寫方式一般用于相互有專屬配合關(guān)系的獨(dú)立權(quán)利要求。
②相互不引用的獨(dú)立權(quán)利要求,例如,多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求寫為:
“ 1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種XX方法,其特征在于,包括A’B’C’D’。”
總結(jié):
從提高專利質(zhì)量的角度來說,需要從源頭上規(guī)范申請(qǐng)人的申請(qǐng)行為,不能僅看專利數(shù)量,而是要從權(quán)利要求的布局、撰寫過程提高專利的質(zhì)量。
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